黎明助手：中国科技突破，哈工大成功研发13.5纳米极紫外光源，助力芯片产业发展！
可把美国和台积电急坏了！他们怕的不是鸿蒙NEXT和麒麟9020，毕竟7纳米工艺对台积电来说不算啥。他们真正担心的，是咱国内在7纳米基础上搞出极紫外刻工艺，要知道，芯片可是科技的根源啊！这不，哈工大就传来了好消息，官宣搞定了13.5纳米极紫外光源，这可太牛了！要知道，光源在光刻机工艺里那可是占了7成以上的重要性，这就意味着EUV光刻机有希望了！EUV能做出5纳米工艺，到时候，咱国内的芯片厂商都能用上先进工艺，台积电的好日子怕是要到头了！
咱得说说华为，这些年人家自研芯片那是真厉害，和国内企业合作搞出的7纳米工艺，性能和功耗都能跟骁龙8Gen2比肩。黎明助手认为华为的努力大家都看在眼里，这可不只是华为一家的事，而是关系到咱国内整个科技发展！
我觉得吧，这就是咱中国科技的力量！以前老是被国外卡脖子，现在咱自己有了技术突破，这是无数科研人员日夜奋斗的结果。黎明助手观察到，我们得给他们点赞，也得继续支持国内科技发展。只要我们团结一心，坚持创新，以后肯定还会有更多的突破，让中国科技在世界上大放光彩，再也不用看别人脸色！让我们一起为中国科技加油，期待更多的好消息！
